Mission nationale de sauvegarde du patrimoine scientifique et technique contemporain

Description

Le Dibs Dual Bean Sputtering fabriqué au laboratoire sert à déposer des fines couches (quelques nanomètres à quelques micromètres) de matériaux extrêmement denses pour la confection d’éléments optiques de filtrage (ex : applications spatiale, imagerie etc.). La machine comprend une enceinte à vide, deux canons à électrons, deux canons à ions, une source plasma, un dispositif de contrôle optique en réflexion, une armoire électrique, une pompe primaire, une pompe cryogénique et un circuit de refroidissement à eau. Les substrats destinés à être recouverts par les couches minces sont le plus souvent des disques de silice d’un diamètre allant de 25 à 100 mm. Ils sont placés dans l’enceinte à vide.Les matériaux à pulvériser sont conditionnés sous forme de disques solides d’environs 100 mm de diamètre, appelés « cibles ». Un faisceau ionique large bombarde la cible avec des ions à haute énergie. Des atomes du matériau cible sont alors éjectés et se condensent sous la forme d'une couche mince à la surface du substrat. Un source ionique supplémentaire est utilisée pour densifier les couches déposées, améliorer leur adhésion ou pré-nettoyer le substrat. Le substrat est placé dans l’enceinte à quelques dizaines de centimètres de la cible.

Utilisation

L’objet est utilisé pour la recherche à l'Institut FRESNEL.