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Chambre de dépôt de couches atomiques

 Fiche N°937
Période de fabrication : 2000-2024
 Fabricant : VEECO
Domaines : Physique
 Sous-domaines :
Organisme : Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille (CINaM) , Faculté des Sciences - 163 avenue de Luminy 13288 Marseille
 Ville : Marseille
Modèle :
 Matériaux :

Description

Le Réacteur de dépôt de couches atomiques fabriqué par Veeco-Cambridge Nanotech sert à élaborer des couches minces d’oxydes, de nitrures et de métaux. Une version 2 de la machine a été lancé en 2014. Le dispositif se compose d’un réacteur, d’un cabinet de gaz, d’un groupe de pompage, d’une électronique de contrôle. Cet exemplaire est spécifiquement équipé d’un système de métrologie in situ (ellipsométrie spectroscopique et spectroscopie d’émission optique) et d’une boite à gants. L’injection séquentielle de précurseurs organométalliques et de vapeurs réactives (p. ex H2O, NH3) permet de réaliser des réactions chimiques de surface auto-limitées. Cela permet de réaliser des films minces (oxydes, nitrures, métaux) présentant une épaisseur contrôlée à l’échelle atomique.


Utilisation

L'objet est utilisé pour la recherche au Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille (CINaM).





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