| Période de fabrication : 2000-2024 | Fabricant : Zeiss | |
| Domaines : Physique | Sous-domaines : Electronique | |
| Organisme : Centre national de la recherche scientifique (CNRS) | Ville : Toulouse | |
| Modèle : Dual Beam 1540 XB2005 | Matériaux : |
Description
La Sonde ionique focalisée Zeiss, modèle Dual Beam 1540 XB2005, est un dispositif d’usinage à très petite échelle (nanomètre) utilisé pour l’observation des résultats. Il s’agit d’un dispositif projetant des ions Gallium focalisés (partie inclinée) d’un microscope électronique à balayage (colonne centrale), et des moniteurs de contrôle et d'observation. Le système comprend en outre une colonne « GIS » (Gas Injection System), non visible, permettant différents dépôts sur l’échantillon : tungstène, platine, silice. Le canon à ions est utilisé pour la gravure et le découpage. Le système d’observation, permet de suivre « en direct » l’usinage de l’échantillon. Grâce au dépôt, il est possible de préparer des objets complexes avec la précision nanométrique, ce qui permet des applications en électronique ou en préparation d’échantillons pour la microscopie électronique.
Utilisation